今后,廢水處理技能水平將不斷進步,在出水水質(zhì)、出資成本、運轉(zhuǎn)辦理、適用性等方面將有更多優(yōu)勢,在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 半導體的出產(chǎn)需求經(jīng)過8個首要工序。超純水首要用于半導體制作中某些工序前后的清洗。例如,在蝕刻工藝之后,切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許,在離子注入過程之后,清潔剩余離子。此外,超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。
超純水是一種用于半導體制作過程中的洗滌劑。那么,在半導體出產(chǎn)中運用超純水會有什么影響呢?在用納米超精密工藝處理半導體時,假如在各種工藝前后留下一個小顆粒,則會導致差錯。因而,在各種工藝前后用超純水清洗晶圓可以保證清潔度并進步半導體出產(chǎn)率(輸出)。
半導體職業(yè)是一個高能耗的職業(yè)。在半導體產(chǎn)品制作過程中,由于出產(chǎn)設(shè)備的精密性和出產(chǎn)工藝的復雜性,對其配套設(shè)施提出了很高的要求,尤其對超純水體系的運用要求更高。 在半導體制作工藝中,50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進行化學處理,而化學處理又與超純水有關(guān)水中的雜質(zhì)會進入硅片,如帶入過量的雜質(zhì),就會導致器件功能下降、影響產(chǎn)品功能。因而,制備高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規(guī)模集成電路的重要前提技能。