跟著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷開展，對清潔水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴(yán)厲。由于超純水在許多指標(biāo)上對半導(dǎo)體的要求很高，因而半導(dǎo)體職業(yè)的超純水與其他職業(yè)的用水要求不同。半導(dǎo)體職業(yè)對超純水有極其嚴(yán)厲的水質(zhì)要求。現(xiàn)在，我國常用的超純水規(guī)范有國家規(guī)范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標(biāo)。 　　在半導(dǎo)體出產(chǎn)過程中，硼是一種p型雜質(zhì)。過量會使n型硅反轉(zhuǎn)，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業(yè)中應(yīng)充分考慮硼的去除。硼離美標(biāo)中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達(dá)較低的指標(biāo)，則必然會進(jìn)步半導(dǎo)體的性能。

　Huncotte體系選用核級樹脂，可經(jīng)過共同的靶向離子交換樹脂有用控制體系出水的硼離子含量。選用IPC-MS檢測硼離子含量，并對硼離子流出物進(jìn)行分析≤ 0.005μG/L遠(yuǎn)低于美標(biāo)E1.3中要求的硼離子含量。 　　今天，萊特萊德集裝箱海水淡化設(shè)備已出廠檢驗(yàn)。萊特萊德集裝箱海水淡化設(shè)備處理了空間限制，安裝便利、體積小、操作簡略。 　　現(xiàn)在，在水資源緊缺的情況下，加強(qiáng)海水淡化的國產(chǎn)化技能研制，在水資源再利用方面，推行海水淡化設(shè)備顯得尤為重要，并且現(xiàn)代海水淡化設(shè)備也逐漸步入了現(xiàn)代這個快速開展的時代，其有用性和可靠性也越來越被人們所認(rèn)可。

超純水設(shè)備成果英勇的“芯” 　　芯片制作的每一道工序都離不開超純水，只要水質(zhì)純潔了，才能保證每一步的正常運(yùn)轉(zhuǎn)。超純水設(shè)備為芯片制作保駕護(hù)航。傳統(tǒng)超純水制備工藝一般運(yùn)用離子交換樹脂，但離子交換樹脂的運(yùn)用一般需求定期的樹脂再生，這既耗費(fèi)材料又耗費(fèi)人力。超純水設(shè)備選用超純水設(shè)備選用反滲透工藝，或選用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床出產(chǎn)超純水，以保證出水水質(zhì)符合職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，滿足芯片職業(yè)用水需求，成果英勇的“芯”。