半導體職業是一個高能耗的職業。在半導體產品制作過程中，由于出產設備的精密性和出產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對超純水體系的運用要求更高。 在半導體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進行化學處理，而化學處理又與超純水有關水中的雜質會進入硅片，如帶入過量的雜質，就會導致器件功能下降、影響產品功能。因而，制備高品質的超純水已成為發展大規模集成電路的重要前提技能。
超純水既將水中的導電介質簡直徹底去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。這種水中除了水分子外，簡直沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是簡直去除氧和氫以外所有原子的水。電阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm極限值(25℃)。
半導體業由于技能發展迅速、市場變化大，其出產能力具有波動性。所以，要求與之配套的半導體純水體系要有一定的可調節性、留有合理的余量，對超純水設備供水的靈活性，安全性，及時性,提出了更高的要求。萊特萊德半導體純水體系投入運轉后，可以出產出合格的電阻率為18MQ *CM的超純水，為半導體用水供給用水保障。
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