工業(yè)廢水由于品種繁復(fù)、排放量大、內(nèi)含污染元素多，對(duì)污水處理廠的技能水平要求高，且不同的職業(yè)處理工藝千差萬別，是一個(gè)技能型職業(yè)。 　　工業(yè)廢水處理要害的一步就是深度處理，可選用膜別離技能，處理后的廢水可到達(dá)回用規(guī)范，有利于廢水的循環(huán)利用，還可以保護(hù)環(huán)境。萊特萊德廢水回收技能選用Neterfo極限別離體系，搭載了PON耐污染技能、POM寬流道高架橋旁路技能，完成了高回收率和低能耗。化學(xué)清洗恢復(fù)性好，較傳統(tǒng)抗污染膜元件壽命進(jìn)步近一倍。Neterfo極限別離體系配備三大系列定制模塊化規(guī)劃完成需求高度匹配。體系內(nèi)置AI芯片完成智能調(diào)節(jié)，時(shí)間保證高效運(yùn)轉(zhuǎn)狀況。

跟著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷開展，對(duì)清潔水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴(yán)厲。由于超純水在許多指標(biāo)上對(duì)半導(dǎo)體的要求很高，因而半導(dǎo)體職業(yè)的超純水與其他職業(yè)的用水要求不同。半導(dǎo)體職業(yè)對(duì)超純水有極其嚴(yán)厲的水質(zhì)要求。現(xiàn)在，我國常用的超純水規(guī)范有國家規(guī)范《電子級(jí)水》(GB/T 11446.1-2013)和美標(biāo)。 　　在半導(dǎo)體出產(chǎn)過程中，硼是一種p型雜質(zhì)。過量會(huì)使n型硅反轉(zhuǎn)，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業(yè)中應(yīng)充分考慮硼的去除。硼離美標(biāo)中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達(dá)較低的指標(biāo)，則必然會(huì)進(jìn)步半導(dǎo)體的性能。

　半導(dǎo)體職業(yè)是一個(gè)高能耗的職業(yè)。在半導(dǎo)體產(chǎn)品制作過程中，由于出產(chǎn)設(shè)備的精密性和出產(chǎn)工藝的復(fù)雜性，對(duì)其配套設(shè)施提出了很高的要求，尤其對(duì)超純水體系的運(yùn)用要求更高。 　　在半導(dǎo)體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進(jìn)行化學(xué)處理，而化學(xué)處理又與超純水有關(guān)水中的雜質(zhì)會(huì)進(jìn)入硅片，如帶入過量的雜質(zhì)，就會(huì)導(dǎo)致器件功能下降、影響產(chǎn)品功能。因而，制備高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規(guī)模集成電路的重要前提技能。