去離子水設備的工藝流程： 一般來說，去離子水設備的工藝流程主要分為三種，如下。 預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→凈化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→水對象。 預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→二級反滲透(正電荷反滲透膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水戶。

用于制備超純水和高純水。其出水電導率可低于1uS/cm，出水電阻率可達1mω·cm以上。根據不同的水質和使用要求，出水電阻率可控制在1 ~ 18mω·cm之間。廣泛用于工業超純水和高純水的制備，如電子和電力用超純水、化學工業用超純水、電鍍超純水、鍋爐補給水和醫用超純水。

根據制藥行業的特殊性，制藥行業的純水設備由于采用低碳不銹鋼或其他經過驗證不會污染水質的材料制成，需要定期進行清洗、殺菌和消毒。而且整個設備從系統設計、材料選擇、制備工藝、儲存、配送、使用都需要按照水的標準來設置。