干凈室中的溫濕度控制 干凈空間的溫濕度主要是依據工藝請求來肯定，但在滿足工藝請求的條件下，應思索到人的溫馨度感。隨著空氣干凈度請求的進步，呈現了工藝對溫濕度的請求也越來越嚴的趨向。詳細工藝對溫度的請求以后還要羅列，但作為總的準繩看，由于加工精度越來越精密，所以對溫度動搖范圍的請求越來越小。例如在大范圍集成電路消費的光刻曝光工藝中，作為掩膜板資料的玻璃與硅片的熱收縮系數的差請求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就惹起了0.24um線性收縮，所以必需有±0.1度的恒溫，同時請求濕度值普通較低，由于人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超越25度，濕渡過高產生的問題更多。相對濕度超越55%時，冷卻水管壁上會結露，假如發作在精細安裝或電路中，就會惹起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將經過空氣中的水分子把硅片外表粘著的灰塵化學吸附在外表難以肅清。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于外表，同時大量半導體器件容易發作擊穿。關于硅片消費最佳濕度范圍為35—45%。

干凈室中的氣流速度規則 這里要討論的氣流速度是指干凈室內的氣流速度，在其他干凈空間中的氣流速度在討論詳細設備時再闡明。 關于亂流干凈室 由于主主要靠空氣的稀釋作用來減輕室內污染的水平，所以主要用換氣次數這一概念，而不直接用速度的概念，不過對室內氣流速度也有如下請求； (1)送風口出口吻流速度不宜太大，和單純空調房間相比，請求速度衰減更快，擴散角度更大。 (2)吹過程度面的氣流速度（例如側送時回流速度）不宜太大，以免吹起外表微粒重返氣流，而形成再污染，這一速度普通不宜大干0.2m/s。 關于平行流干凈室《習氣上稱層流干凈室），由于主要靠氣流的“活塞打擠壓作用掃除行染，所以截面上的速度就是十分重要的指標。過去都參考美國20gB規范，采用0.45m/s．但人們也都理解到這樣大速度所需求的通風量是極大的，為了節能，也都在探求降低風速的可行性。 在我國，《空氣干凈技術措施》和(干凈廠房設計標準）都是這樣規則的 垂直平行流（層流）干凈室≥0.25m/s 程度平行流（層流）干凈室≥0.35 m/s

實驗室凈化分類 亂流式 空氣由空調箱經風管與干凈室內之空氣過濾器(HEPA) 進入干凈室，并由干凈室兩側隔間墻板或高架地板回風。氣流非直線型運動而呈不規則之亂流或渦流狀態。此型式適用于干凈室等級1,000-100,000級。 優點：結構簡單、系統建形成本低，干凈室的擴大比擬容易，在某些特殊用處場所，可并用無塵工作臺，進步干凈室等級。 缺陷：亂流形成的微塵粒子于室內空間飄浮不易排出，易污染制程產品。另外若系統中止運轉再激活，欲達需求之干凈度，常常須耗時相當長一段時間