工業(yè)廢水由于品種繁復、排放量大、內(nèi)含污染元素多，對污水處理廠的技能水平要求高，且不同的職業(yè)處理工藝千差萬別，是一個技能型職業(yè)。 　　工業(yè)廢水處理要害的一步就是深度處理，可選用膜別離技能，處理后的廢水可到達回用規(guī)范，有利于廢水的循環(huán)利用，還可以保護環(huán)境。萊特萊德廢水回收技能選用Neterfo極限別離體系，搭載了PON耐污染技能、POM寬流道高架橋旁路技能，完成了高回收率和低能耗?；瘜W清洗恢復性好，較傳統(tǒng)抗污染膜元件壽命進步近一倍。Neterfo極限別離體系配備三大系列定制模塊化規(guī)劃完成需求高度匹配。體系內(nèi)置AI芯片完成智能調(diào)節(jié)，時間保證高效運轉(zhuǎn)狀況。

跟著半導體工業(yè)的不斷開展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因而半導體職業(yè)的超純水與其他職業(yè)的用水要求不同。半導體職業(yè)對超純水有極其嚴厲的水質(zhì)要求。現(xiàn)在，我國常用的超純水規(guī)范有國家規(guī)范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導體出產(chǎn)過程中，硼是一種p型雜質(zhì)。過量會使n型硅反轉(zhuǎn)，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業(yè)中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導體的性能。

　Huncotte體系選用核級樹脂，可經(jīng)過共同的靶向離子交換樹脂有用控制體系出水的硼離子含量。選用IPC-MS檢測硼離子含量，并對硼離子流出物進行分析≤ 0.005μG/L遠低于美標E1.3中要求的硼離子含量。 　　今天，萊特萊德集裝箱海水淡化設備已出廠檢驗。萊特萊德集裝箱海水淡化設備處理了空間限制，安裝便利、體積小、操作簡略。 　　現(xiàn)在，在水資源緊缺的情況下，加強海水淡化的國產(chǎn)化技能研制，在水資源再利用方面，推行海水淡化設備顯得尤為重要，并且現(xiàn)代海水淡化設備也逐漸步入了現(xiàn)代這個快速開展的時代，其有用性和可靠性也越來越被人們所認可。