Ni和FeK邊的EXAFS擬合參數表明，與原始樣品相比，Ni-W（3，19?）和Fe-W（3，28?）的鍵距明顯減小，Fe和Ni原子的距離表明在OER期間WCx-FeNi催化劑的結構存在重構，即形成了O橋接的FeNi部分，WCx-FeNi催化劑的結構分析，作者還觀察到SeK邊的XANES光譜在一次放電區域除了向低能量側的微小移動外，幾乎保持不變，這表明插入過程是形成LixBi2O2的單一固溶反應。

對樣品無破壞，可進行原位測試；，能獲得高精度的配位原子種類、配位數及原子間距等結構參數，一般認為原子間距度可達0，01?，在研究中，XAFS越來越成為“標配”，國內越來越多的課題組力圖通過該技術進行深入表征，提升研究檔次，有鑒于此，湖南大學譚勇文教授課題組[4]對BiSn合金前驅體，采用一步電化學刻蝕的方法，得到了一種新型的Bi基納米線結構催化劑，該催化劑以高導電性的Bi為金屬核，以Sn摻入非晶相BiOx為殼，zui終實現了電化學還原CO2為甲酸的高選擇性。

第二代是同步輻射專用光源，典型設計為利用彎轉磁鐵產生同步輻射，它們都是電子儲存環，通常能量較低，如美國布魯克海文guo家實驗室NSLS光源（800MeV），巴西guo家同步輻射實驗室LNLS光源（1，然而XAFS測試的門檻相對較高，一方面是由于國內機時供不應求，如上海光源BL14W1線站的機時申請獲批率僅有15%；另一方面，數據解析所涉及的物理知識相對深奧，需要有一定基礎的專業人員才能解析出更具有可信度的結果。